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半導体用炉管（拡散炉、酸化炉などに使用されるもの）は、超高純度、高温安定性、耐熱衝撃性などの厳しい要件を満たす必要があります。 RSiC 炉管はその優れた特性により主流の材料となっています。 焼結体の純度は3N以上、加工精度は0.01mmです。

RSiC炉管：再結晶炭化ケイ素炉管は半導体製造装置の主要部品であり、主に高温プロセスチャンバー（エピタキシャル成長、イオン注入、拡散炉など）に使用されます。焼結体の純度は3N以上、加工精度は0.01mmに達し、超高純度、耐腐食性、精密サイズの要件を満たしています。