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炉プロセスチューブ RSiC 高純度薄肉

  • Starlight
  • 瀋陽、中国
  • 30日~45日
  • 500t/年のSiC製品処理
半導体用炉管(拡散炉、酸化炉などに使用されるもの)は、超高純度、高温安定性、耐熱衝撃性などの厳しい要件を満たす必要があります。 RSiC 炉管はその優れた特性により主流の材料となっています。 焼結体の純度は3N以上、加工精度は0.01mmです。

プロセスチューブ/RSiC炉管高純度薄肉

RSiC furnace tube

製品説明

拡散炉、CVD炉、アニール炉などの半導体および太陽光発電製造用の高温装置において、RSiC炉管はメインプロセス管の内側または外側に設置される重要な補助部品であり、プロセス管の役割は単なる物理的な保護をはるかに超えています。

炉管は金属汚染を防ぎ、プロセス中の汚染制御と純度を確保します。

メインプロセスチューブを保護し、機器の耐用年数を延ばします。

RSiC 炉管は、半導体、太陽光発電、第 3 世代半導体などのハイエンド製造分野において、高温、腐食性、高純度のプロセスで大きな利点を持っています。

RSiC炉管の特性

1、極めて高い温度性能:最高1600℃の温度に耐え、石英プロセスチューブ(1200℃限界)や通常のセラミックプロセスチューブをはるかに超えます。

2、優れた耐熱衝撃性:プロセスチューブは1000℃/分の急激な温度上昇と温度下降に耐えることができます。

3、非常に強い化学的不活性:HCl、塩素₂、HFなどの腐食性ガスに耐性があります。

4、超高純度、低汚染:金属不純物含有量<1ppm。

5、長寿命:強力な沈殿防止能力と低いメンテナンスコスト。

6、熱場均一性の最適化:RSiC 炉管は熱伝導率が高く、均質化が速く、炉内の軸方向の温度差が低減します(± 0.3 ℃ 以内で制御可能)。

メインパラメータ

高温窯設備業界

RSiC

SiC含有量(%)

≥99%

嵩密度(g/cm3

2.65~2.75

見かけ気孔率(%)

17歳未満

室温強度(MPa)

90~100

1300℃での強度(MPa)

100~110

20℃における弾性率

240

1200℃における熱伝導率(W/メートル)

36

熱膨張×10-6/℃

4.6

最高使用温度(℃)

1650℃

20°Cにおける硬度(kg/んん2

2000

20°における破壊靭性(MpaxM1/2

2.0

製品詳細

Process Tube


RSiC 炉管/プロセスチューブ、焼結体の純度は 3N 以上、プロセスチューブの加工精度は 0.01mm です。

パッキング

furnace tube

私たちについて

シリコンカーバイド(SiC)の産業チェーン全体にわたるサービスに特化した貿易企業として、ライズポート グローバル トレーダー 株式会社.(瀋陽)は、ビジネスモデルとバリューチェーンの面で対外貿易プラットフォームに大きな優位性を持っています。企業は、上流で国内の大手シリコンカーバイド生産企業と連携し、原材料、製品(研磨材、セラミック部品)、半導体デバイス(ウェーハ、パワーモジュール)までを網羅する産業チェーンを統合する能力を備えています。ダウンストリーム: 国際的なバイヤーにサービスを提供し、カスタマイズされたサービスを提供し、ワンストップ調達ソリューションを提供します。調達、物流、通関、越境決済など高品質なサービスを提供します。 

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